| 摘要 |
本发明提供一种用来产生目标物之喷溅(sputtering)以在基板上制作涂膜(coating)之装置。该装置包括包含阴极与阳极之磁管(magnetron)。电源供应器系连接于该磁管，且至少一个电容器系连接于该电源供应器。该装置也包括操作地连接于该至少一个电容器之电感器，并提供第一开关(switch)及第二开关。该第一开关操作地连接该电源供应器至该磁管，用以对该磁管充电(charge)，且该第一开关系组构成根据第一脉波(pulse)来对该磁管充电。该第二开关系操作地连接以使该磁管放电(discharge)。该第二开关系组构成根据第二脉波来使该磁管放电。 |
