发明名称 高效率发光二极体
摘要 本发明揭露一种形成高效率发光装置之方法及其结构。此方法包含提供一发光二极体结构;以蒸镀方式将一分布式布拉格反射层附加至发光二极体上;以及藉由分布式布拉格反射层将发光二极体结构黏贴至一共晶层,以形成此高效率发光装置。
申请公布号 TW200840086 申请公布日期 2008.10.01
申请号 TW096110719 申请日期 2007.03.28
申请人 广镓光电股份有限公司 发明人 王伟凯;林素慧;施文忠
分类号 H01L33/00(2006.01) 主分类号 H01L33/00(2006.01)
代理机构 代理人 蔡玉玲
主权项
地址 台中市西屯区工业区三十四路40号