发明名称 正磷酸锂溅镀标靶及其之制造方法
摘要 提供一种用以生成一正磷酸化锂溅镀标靶或砖的方法以及以该方法所制造而成的标靶材料。该标靶系藉由将纯、正磷酸化锂粉末精炼至一精细颗粒大小而制成的。在将其密实化成一陶瓷主体、封装并脱气后,将该陶瓷主体密实化至一高密度,并在一密封环境下将其转变成一稳定、单相的正磷酸化锂。此正磷酸化锂标靶包含单相,且较佳具有大于90%之相纯度及大于95%之密度。
申请公布号 TW200839023 申请公布日期 2008.10.01
申请号 TW096142071 申请日期 2007.11.07
申请人 英菲尼特电源设备股份有限公司 发明人 纽德克伯恩德J;米洛诺波劳瓦西里奇
分类号 C23C14/34(2006.01) 主分类号 C23C14/34(2006.01)
代理机构 代理人 蔡坤财;李世章
主权项
地址 美国