| 发明名称 | 有效的邻近效应校正方法 | ||
| 摘要 | 本发明描述了基于目标布局(504)的选定估算点(505和506)的之间的校正(501和502)的内插(503)的方法。通过连接校正点，该技术提供了减小数据量并简化掩模写、检验和修复处理的方法。相同的方法可应用于带有非印刷特征的布局，其中所述校正基于主特征的图像质量。对于矢量扫描掩模写工具，内插所述校正的段可断裂为角度适合的段。 | ||
| 申请公布号 | CN100423011C | 申请公布日期 | 2008.10.01 |
| 申请号 | CN200480011095.1 | 申请日期 | 2004.04.13 |
| 申请人 | 达酷美科技公司 | 发明人 | 克里斯托弗·皮拉特 |
| 分类号 | G06F17/50(2006.01);G06K9/00(2006.01);G03C5/00(2006.01) | 主分类号 | G06F17/50(2006.01) |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人 | 徐谦;杨红梅 |
| 主权项 | 1. 一种用于在集成电路的布局上执行邻近效应校正以产生经校正布局的方法，所述方法包括：接收所述集成电路一部分的计算机可读布局；利用数据处理器识别所述布局的第一估算点和第二估算点；利用数据处理器执行对所述第一估算点的邻近效应校正以便形成第一经校正点，以及执行对所述第二估算点的邻近效应校正以便形成第二经校正点；以及计算连接所述第一经校正点与所述第二经校正点的互连曲线，其中所述互连曲线是多项式函数。 | ||
| 地址 | 美国加利福尼亚州 | ||