发明名称 SiO<SUB>x</SUB>:Si复合物及其制造方法
摘要 本发明提供一种制品,由硅氧化物和导电的掺杂的硅材料制成,两者在保护性的环境中结合以形成SiO<SUB>X</SUB>:Si材料的复合物,该复合物呈现出SiO<SUB>X</SUB>的特性,还由于Si的存在而具导电性。由这种复合材料制成的制品有很多用途,例如作为直流或交流溅射过程中用于生产硅氧化物薄膜的靶材,用于触摸屏,LCD显示屏的格栅薄膜和用在很多领域的光学薄膜。
申请公布号 CN101278068A 申请公布日期 2008.10.01
申请号 CN200680036012.3 申请日期 2006.08.11
申请人 温特克光电公司 发明人 戴维·E·史蒂文森;利·Q·周
分类号 C23C14/00(2006.01);C23C14/10(2006.01);C23C14/14(2006.01);C23C14/34(2006.01);H01L21/31(2006.01) 主分类号 C23C14/00(2006.01)
代理机构 上海智信专利代理有限公司 代理人 邓琪
主权项 1、一种制品,包括硅氧化物和导电硅彼此结合而成的组合物。
地址 美国密歇根州