发明名称 | 用于同时决定叠对准确度及图案放置误差的结构与方法 | ||
摘要 | 本发明提供一种用来自单一测量结构(200)取得叠对误差(overlay error)及PPE误差信息的技术。通过在单一测量结构(221,241)中的至少两个不同的器件层中形成一些周期性子结构(210,220,240,250),而达到上述目的,其中是在这些两个不同的器件层中提供至少一个分段(200)及非分段(211,251)部分。 | ||
申请公布号 | CN101278237A | 申请公布日期 | 2008.10.01 |
申请号 | CN200680035983.6 | 申请日期 | 2006.08.23 |
申请人 | 先进微装置公司 | 发明人 | B·舒尔茨 |
分类号 | G03F7/20(2006.01) | 主分类号 | G03F7/20(2006.01) |
代理机构 | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人 | 戈泊 |
主权项 | 1、一种叠对测量结构,包含:在衬底上形成的指定测量部位的第一器件层中形成的第一周期性结构(230),该第一周期性结构(230)包含第一周期性子结构(210)及第二周期性子结构(220),该第一周期性结构(230)中的该第一及第二周期性子结构每个都包含多个第一结构组件(211,221),某些第一结构组件包含第一分段部分;以及在设置在该第一器件层之上的第二器件层中形成的第二周期性结构(260),该第二周期性结构包含第一周期性子结构(240)及第二周期性子结构(250),该第二周期性结构(260)中的该第一及第二子结构每个都包含多个第二结构组件(241,251),某些第二结构组件包含第二分段部分,该第一及第二周期性结构(230,260)在该指定测量部位中形成周期性堆栈式结构。 | ||
地址 | 美国加利福尼亚州 |