发明名称 一种磁性形状记忆合金单晶及制备方法
摘要 本发明公开了一种磁性形状记忆合金的材料及其单晶制备方法。该磁性单晶材料的化学式为Ni<SUB>50+x</SUB>Fe<SUB>25-x</SUB>Ga<SUB>25+y</SUB>,其中-2.00≤x≤2.00;-3.00≤y≤2.00;x、y表示原子百分比含量。其单晶制备方法包括将称好的料盛放在坩埚中,并加入SiO<SUB>2</SUB>+B<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB>玻璃,采用提拉法生长Ni<SUB>50+x</SUB>Fe<SUB>25-x</SUB>Ga<SUB>25+y</SUB>单晶。本发明的单晶制备过程中加入了SiO<SUB>2</SUB>+B<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB>玻璃,有效地控制了本发明规定成分的NiFeGa材料在单晶生长过程中容易产生的第二相析出。此外,本发明提供的制备方法适用于常规的提拉晶体的设备,而不需要附加设备,因此,成本低、易于工业化批量生产。
申请公布号 CN101275194A 申请公布日期 2008.10.01
申请号 CN200810055808.4 申请日期 2008.01.09
申请人 中国科学院物理研究所 发明人 朱伟;陈京兰;吴光恒
分类号 C22C19/03(2006.01);C30B29/52(2006.01);C30B15/00(2006.01) 主分类号 C22C19/03(2006.01)
代理机构 北京中创阳光知识产权代理有限责任公司 代理人 尹振启
主权项 1.一种磁性形状记忆材料,其特征在于,其化学式为Ni50+xFe25-xGa25+y;其中:-2.00≤x≤2.00;-3.00≤y≤2.00;x、y表示原子百分比含量。
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