发明名称 微结构体及其制备方法
摘要 本发明公开了一种制备微结构体的方法,其中将铝衬底表面至少依次进行如下处理:(A)用于阳极化铝衬底表面以形成带有微孔的阳极化膜的阳极化处理;和(B)将在阳极化处理(A)中形成的阳极化膜在至少50℃的温度加热至少10分钟的加热处理,从而所述的微结构体在阳极化膜的表面带有微孔。该方法能够得到过滤流量高的多孔氧化铝膜过滤器,所述的多孔氧化铝膜过滤器具有优异的耐酸和碱性。
申请公布号 CN101275264A 申请公布日期 2008.10.01
申请号 CN200710160897.4 申请日期 2007.12.27
申请人 富士胶片株式会社 发明人 畠中优介;堀田吉则
分类号 C25D11/04(2006.01);B01D71/02(2006.01) 主分类号 C25D11/04(2006.01)
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 代理人 柳春琦
主权项 1.一种制备微结构体的方法,其中将铝衬底表面至少依次进行如下处理:(A)用于阳极化所述铝衬底表面以形成带有微孔的阳极化膜的阳极化处理;和(B)将在阳极化处理(A)中形成的阳极化膜在至少50℃的温度加热至少10分钟的加热处理,从而得到在所述阳极化膜的表面带有微孔的微结构体。
地址 日本国东京都