| 发明名称 | 液晶显示器件及其制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种液晶显示器件，该器件包括：形成在基板上的数据线、虚拟层以及源极和漏极；形成在所述数据线、虚拟层以及源极和漏极上的欧姆接触层；形成在所述基板上的半导体层和栅绝缘层；贯穿所述欧姆接触层、半导体层以及栅绝缘层形成的多个接触孔，其中至少一个接触孔暴露所述漏极；在所述栅绝缘层上垂直于所述数据线形成的栅线；位于所述源极和漏极之间从所述栅线延伸形成的栅极；在所述栅线和数据线交叉区域限定的像素区；以及通过另一接触孔与所述漏极相连的像素电极，其中该像素电极由与所述栅线相同的材料形成。 | ||
| 申请公布号 | CN100422832C | 申请公布日期 | 2008.10.01 |
| 申请号 | CN200510132707.9 | 申请日期 | 2005.12.20 |
| 申请人 | 乐金显示有限公司 | 发明人 | 郑浩永;李道宁 |
| 分类号 | G02F1/136(2006.01);G02F1/133(2006.01);H01L29/786(2006.01);H01L21/027(2006.01);G03F7/20(2006.01) | 主分类号 | G02F1/136(2006.01) |
| 代理机构 | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人 | 徐金国;梁挥 |
| 主权项 | 1. 一种液晶显示器件，包括：形成在基板上的数据线、虚拟层以及源极和漏极；形成在所述数据线、虚拟层以及源极和漏极上的欧姆接触层；形成在所述基板上的半导体层和栅绝缘层；贯穿所述欧姆接触层、半导体层和栅绝缘层形成的多个接触孔，至少一个所述接触孔暴露所述漏极；形成在所述栅绝缘层上与所述数据线垂直的栅线；从所述栅线延伸出的栅极，所述栅极位于所述源极与所述漏极之间；由所述栅线和所述数据线的交叉限定的像素区；以及通过位于所述像素区中的至少一个所述接触孔与所述漏极相连的像素电极，所述像素电极由与所述栅线相同的材料形成。 | ||
| 地址 | 韩国首尔 | ||