发明名称 激光转印装置的转印头
摘要 本发明涉及一种以激光修复装置为代表的激光转印装置中,可将转印材料的薄膜和转印对象体的距离持续保持在微米级(例如,5~20μm)的激光转印装置的激光头。其具有:开设有下面保持有转印板,且使转印板向上面侧露出的转印窗口的转印板保持架、具有所述转印板保持架收纳用的空间,同时提供水平方向及垂直方向的位置基准的转印头机体、相对于所述转印头机体,以上下可动且水平不可动的形式来支承收纳于所述转印头机体的转印板保持架收纳用的空间内的转印板保持架的保持架支承机构、通过向所述转印板的下方喷射压力气体,使所述转印板与所述转印板保持架一起相对于所述被转印面浮出的转印板浮起装置。
申请公布号 CN101276072A 申请公布日期 2008.10.01
申请号 CN200810088460.9 申请日期 2008.03.31
申请人 欧姆龙株式会社 发明人 竹泽佳史;驹井良男;井上勇辉;和田竹彦
分类号 G02F1/13(2006.01);G09F9/30(2006.01);B23K26/00(2006.01) 主分类号 G02F1/13(2006.01)
代理机构 北京市柳沈律师事务所 代理人 陶凤波
主权项 1、一种激光转印装置的转印头,用于在下述状态支承转印板,该转印板在具有激光透射性的板状小片的对物面上粘附转印材料薄膜而构成,所述状态为使转印对象体的大致水平的被转印面与转印材料薄膜之间保持微小的大致一定的间隔而使转印材料薄膜与被转印面相对向,其特征在于,具有:转印板保持架,在其下面保持所述转印板,并且向上面侧开设有使所述转印板露出的转印窗口;转印头机体,其具有所述转印板保持架收纳用空间,并且赋予水平方向及垂直方向的位置基准;保持架支承机构,其相对于所述转印头机体、以可上下移动且不可水平移动的方式来支承收纳在所述转印头机体的转印板保持架收纳用空间中的转印板保持架;转印板浮起部件,通过向所述转印板保持架的下方喷射压力气体,使所述转印板与所述转印板保持架一同、相对于所述被转印面浮起。
地址 日本京都府