发明名称 |
真空装置 |
摘要 |
一种真空装置,包括多个低温泵(10),与一个或多个真空室连接。低温泵(10)经由介质供应管道(12)和介质回流管道(14)与压缩机(16)连接。调节装置(18)连接在至少一低温泵之前,以控制供给低温泵的介质量。此外,低温泵(10)包括温度测量装置。温度测量装置和调节装置(18)与控制器(28)连接。为使所需介质量供给低温泵(10),按照本发明,调节装置(18)包括在介质供应管道(12)中的节流装置(24)和在节流旁通管道(22)中的控制阀。 |
申请公布号 |
CN100422660C |
申请公布日期 |
2008.10.01 |
申请号 |
CN200480022767.9 |
申请日期 |
2004.07.14 |
申请人 |
莱博尔德真空技术有限责任公司 |
发明人 |
迪尔克·席勒;霍尔格·迪茨;格哈德·W·瓦尔特 |
分类号 |
F25B9/14(2006.01);F25B41/04(2006.01);F04B37/08(2006.01) |
主分类号 |
F25B9/14(2006.01) |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 |
代理人 |
范莉 |
主权项 |
1. 一种真空装置,包括:多个低温泵(10),连接一个或多个真空室;压缩装置(16),经由介质供应管道(12)和介质回流管道(14)与低温泵(10)连接;调节装置(18),连接在至少一低温泵(10)之前,以控制供给低温泵(10)的介质量;温度测量装置,与低温泵(10)连接;和控制器(28),与调节装置(18)及温度测量装置连接;其特征在于,调节装置(18)包括布置在相应的介质供应管道(12)内的节流装置(24),以及布置在跨越节流装置的节流旁通管道(22)内的阀(26)。 |
地址 |
德国科隆 |