发明名称 副罐构件和液体喷射装置
摘要 本发明是一种液体喷射装置,包括:在主扫描方向上往复运动的托架;安装在所述托架上的液体喷射头,其具有多个头供液端口和多个喷嘴;和安装在所述托架上的副罐构件,其具有分别与所述液体喷射头的所述多个头供液端口连通的多个储液室开口。所述副罐构件形成为单个一体的构件。所述多个储液室开口中的每个由具有预定面积的弹性间隔关闭以形成储液室。所述多个储液室开口分别与设置在所述副罐构件中的多个液体连通通道连通。所述多个液体连通通道分别与设置在所述副罐构件外侧处的多个副罐供液端口连通。
申请公布号 CN100421954C 申请公布日期 2008.10.01
申请号 CN200480007055.X 申请日期 2004.03.18
申请人 精工爱普生株式会社 发明人 小泉义弘
分类号 B41J2/175(2006.01) 主分类号 B41J2/175(2006.01)
代理机构 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 代理人 柳春雷
主权项 1. 一种液体喷射装置包括在主扫描方向上往复运动的托架,安装在所述托架上的液体喷射头,其具有多个头供液端口和多个喷嘴,和安装在所述托架上的副罐构件,其具有分别与所述液体喷射头的所述多个头供液端口连通的多个储液室开口,其中所述副罐构件形成为单个一体的构件,所述多个储液室开口由共同的膜构件关闭以形成储液室,所述多个储液室开口分别与设置在所述副罐构件中的多个液体连通通道连通,且所述多个液体连通通道分别与多个副罐供液端口连通,所述多个副罐供液端口与设置在所述副罐构件外部处的供液源连通。
地址 日本东京都