发明名称 螺旋谐振器型等离子体处理设备
摘要 本发明公开了一种螺旋谐振器等离子体处理设备。该等离子体处理设备包括:处理室,该处理室具有衬底托架,该衬底托架支撑待处理的衬底;设置在处理室上以便与处理室的内部空间相连通的介电管;围绕介电管的外管缠绕的螺旋线圈;以及向螺旋线圈供给RF功率的RF电源。介电管为双管形式,包括内管和外管。而在外管内设置等离子体源气体入口,用以将等离子体源气体供给到内管和外管之间的空间内。在介电管内设置控制电极,用以控制等离子体电势。这种等离子体处理设备提供了沿晶片径向的均匀等离子体密度分布,并易于控制处理室内的等离子体电势。
申请公布号 CN100423196C 申请公布日期 2008.10.01
申请号 CN200410089772.3 申请日期 2004.11.04
申请人 三星电子株式会社 发明人 金大一;马东俊;金国闰;崔圣圭
分类号 H01L21/205(2006.01);H01L21/3065(2006.01);H01L21/00(2006.01);H05H1/00(2006.01) 主分类号 H01L21/205(2006.01)
代理机构 北京市柳沈律师事务所 代理人 李晓舒;魏晓刚
主权项 1. 一种螺旋谐振器等离子体处理设备,包括:处理室,该处理室具有支撑待处理的衬底的衬底托架;介电管,该介电管设置在处理室上,以便与处理室的内部空间连通,在该介电管中设置源气体入口,用以提供等离子体源气体;围绕介电管缠绕的螺旋线圈;将RF功率施加到螺旋线圈上的RF电源;设置在介电管内的控制电极,用以控制介电管内产生的等离子体电势;以及可变DC电源,用以将预定电势施加到控制电极上。
地址 韩国京畿道