发明名称 |
一种抗水流冲击的体硅腐蚀配套设备 |
摘要 |
本发明涉及一种抗水流冲击的体硅腐蚀配套设备,尤指一种对MEMS体硅腐蚀设备——恒温腐蚀设备和恒温加超声腐蚀设备的缺陷加以改进的体硅腐蚀配套设备。本发明中,被固定的腐蚀槽的底部设有与具有开关的导流管的一端连通的开口,导流管的另一端连接到腐蚀液容器,且放置硅片的石英架固定在腐蚀槽的靠近敞口的位置;所述腐蚀槽的内部空间呈几何对称,且腐蚀槽的竖直对称轴通过所述腐蚀槽底部开口的中心;所述石英架上放置有硅片时,硅片的中心对称轴与所述腐蚀槽的竖直对称轴重合。本发明还可以在所述腐蚀槽中在硅片两侧对称地设置有加热器。由此,在硅片两侧可以形成对称的水流流速场和压力场,并可以避免对硅片的不必要的热冲击。 |
申请公布号 |
CN101274742A |
申请公布日期 |
2008.10.01 |
申请号 |
CN200710064861.6 |
申请日期 |
2007.03.28 |
申请人 |
中国科学院微电子研究所 |
发明人 |
石莎莉;陈大鹏;景玉鹏;欧毅;叶甜春 |
分类号 |
B81C5/00(2006.01);H01L21/306(2006.01) |
主分类号 |
B81C5/00(2006.01) |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 |
代理人 |
周国城 |
主权项 |
1. 一种抗水流冲击的体硅腐蚀配套设备,包括腐蚀槽、支撑装置、导流管、腐蚀液容器和用于放置硅片的石英架,所述支撑装置用于竖直固定所述腐蚀槽,且所述腐蚀槽槽口向上;所述导流管具有开关,一端与设置在腐蚀槽底部的开口连通,另一端连接到所述腐蚀液容器;所述石英架设置于腐蚀槽的内部空间,其特征在于:所述腐蚀槽的内部空间在竖直方向上呈几何对称,且腐蚀槽内部空间的竖直对称轴通过所述底部开口的中心;所述石英架上在放置有硅片时,硅片在竖直方向上的中心对称轴与所述腐蚀槽内部空间的竖直对称轴重合。 |
地址 |
100029北京市朝阳区北土城西路3号 |