发明名称 一种双自由层垂直铁磁性隧道结结构
摘要 一种双自由层垂直铁磁性隧道结结构,属于磁随机存储技术领域,所提供的双自由层垂直铁磁性隧道结(MTJ)结构的最底层为底电极层,从底往上依次为反铁磁层、钉扎层、为绝缘层、第1自由层、第2自由层、顶电极层。第1自由层和第2自由层构成双自由层结构。所述钉扎层和第1自由层为磁各向异性易轴垂直膜面材料,第2自由层为各向异性值大于35KA/m的面内磁各向异性材料。这种结构具有低写入电流特性,可实现超高存储密度,将被广泛应用到新型磁传感器或磁随机存储器件等器件中。
申请公布号 CN101276879A 申请公布日期 2008.10.01
申请号 CN200810103181.5 申请日期 2008.04.01
申请人 北京科技大学 发明人 姜勇;包瑾;徐晓光
分类号 H01L43/08(2006.01);H01L27/22(2006.01);G11C11/15(2006.01);G11C11/16(2006.01);H01F10/32(2006.01) 主分类号 H01L43/08(2006.01)
代理机构 代理人
主权项 1. 一种双自由层垂直铁磁性隧道结结构,其特征在于:a.最底层为底电极层,厚度为10~200纳米;b.从底往上第二层为反铁磁层,厚度为10~20纳米;c.从底往上第三层为钉扎层,所述钉扎层为磁各向异性易轴垂直膜面材料;d.从底往上第四层为绝缘层,厚度为0.5~2.5纳米;e.从底往上第五层为第1自由层,厚度为1~10纳米;f.从底往上第六层为第2自由层,厚度为1~10纳米;g.从底往上第七层为顶电极层,厚度为10~200纳米;其中所述第五层和所述第六层构成双自由层结构,所述第1自由层为磁各向异性易轴垂直膜面材料,所述第2自由层为各向异性值大于35KA/m的面内磁各向异性材料。
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