发明名称 |
氢氟酸生成装置及氢氟酸生成方法 |
摘要 |
本发明的课题是:利用以活性氧化铝及二氧化硅作为主成分的无机陶瓷系吸附剂,从含有氟的排水、废液中将氟进行吸附处理,并使用吸附处理后的吸附剂来生成氢氟酸的情况下,提高氢氟酸的生成效率,并且抑制吸附剂劣化。因此,本发明提供一种氢氟酸生成装置,其利用以活性氧化铝及二氧化硅作为主成分的陶瓷系吸附剂,从含有氟离子的氟化合物或氟混合物中将氟离子进行吸附处理,并使用吸附处理后的吸附剂来生成氢氟酸;且其具备蒸馏机构及冷却机构,所述蒸馏机构使上述吸附剂与强碱或强酸反应,并且添加结晶性二氧化硅来生成六氟硅酸气体,所述冷却机构冷却由上述蒸馏机构所生成的六氟硅酸气体,并进行水解来生成氢氟酸。 |
申请公布号 |
CN101277899A |
申请公布日期 |
2008.10.01 |
申请号 |
CN200680020302.9 |
申请日期 |
2006.06.29 |
申请人 |
日本顶点服务有限会社;堺钢板株式会社 |
发明人 |
仲喜治一 |
分类号 |
C01B7/19(2006.01);B01D3/00(2006.01);C02F1/28(2006.01) |
主分类号 |
C01B7/19(2006.01) |
代理机构 |
北京集佳知识产权代理有限公司 |
代理人 |
蒋亭;苗堃 |
主权项 |
1.一种氢氟酸生成装置,其利用以活性氧化铝及二氧化硅作为主成分的陶瓷系吸附剂,从含有氟离子的氟化合物或氟混合物中将氟离子进行吸附处理,并使用吸附处理后的吸附剂来生成氢氟酸;其中,具备蒸馏机构及冷却机构:所述蒸馏机构添加所述吸附剂及强碱或强酸进行反应,并且添加结晶性二氧化硅来生成六氟硅酸气体,所述冷却机构冷却由所述蒸馏机构所生成的六氟硅酸气体,并进行水解来生成氢氟酸。 |
地址 |
日本大阪府 |