发明名称 |
氢分离用复合膜材料及使用它的氢分离用元件 |
摘要 |
本发明涉及一种氢分离用复合膜材料,其特征在于,具备氢透过膜和保形网,并且该保形网和所述氢透过膜是通过以非结合状态的层叠和打褶加工,成型为可以分离且每单位面积的所述氢透过膜的表面积比为3倍以上的大面积,其中所述氢透过膜是选择性地透过氢,并且压延成型为靠自身难以维持形状的厚度30μm以下,所述保形网配置于该氢透过膜的任何一侧面,并且由选自与氢透过膜之间不产生加热扩散的高熔点金属的线材构成而得到的。通过使用上述氢分离用复合膜材料构成氢分离用元件。 |
申请公布号 |
CN101277752A |
申请公布日期 |
2008.10.01 |
申请号 |
CN200680036096.0 |
申请日期 |
2006.09.15 |
申请人 |
日本精线株式会社 |
发明人 |
石部英臣;田贺裕康 |
分类号 |
B01D69/10(2006.01);B01D69/12(2006.01);B01D71/02(2006.01);C01B3/56(2006.01) |
主分类号 |
B01D69/10(2006.01) |
代理机构 |
北京集佳知识产权代理有限公司 |
代理人 |
蒋亭;苗堃 |
主权项 |
1.氢分离用复合膜材料,其特征在于,具备选择性地透过氢的氢透过膜和在该氢透过膜的至少任一侧面配置的保持该氢透过膜形状的保形网,所述氢透过膜被压延成型为靠自身难以维持形状的厚度30μm以下,所述保形网使用选自与所述氢透过膜之间不发生加热扩散的高熔点金属的金属线材而制成,组合所述氢透过膜和保形网,并且实施设置连续褶皱的打褶加工,同时,通过该打褶加工,将通过该氢透过膜的褶皱高度的中央的平均高度的基准面的面积So与在基准面内的氢透过膜的表面积S之比S/So成型为3~10倍。 |
地址 |
日本大阪府 |