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发明名称 Method for forming a pattern of semiconductor device
摘要
申请公布号 KR100861196(B1) 申请公布日期 2008.09.30
申请号 KR20020042034 申请日期 2002.07.18
申请人 发明人
分类号 H01L21/027 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
主权项
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