发明名称 substrato, e, composição de revestimento
摘要 <p>SUBSTRATO, E, COMPOSIçãO DE REVESTIMENTO. Um substrato tendo pelo menos uma superficie principal, que compreende um primeiro revestimento depositado sobre a superficie principal e um segundo revestimento tendo propriedades contra a formação de sujeira, depositado e aderente sobre a superficie do primeiro revestimento - o primeiro revestimento sendo um revestimento à base de (met)acrilato e sendo obtido pela polimerização de uma composição polimerizável, que compreende: i) pelo menos um composto (met)acrilato e ii) pelo menos um composto 1 tendo pela menos uma ligação -M-Z', com M representando Si ou um átomo metálico, Z' representando OH ou um grupo hidrolisável, e pelo menos um grupo etilênico insaturado ou um grupo epóxi, e| ou iii) pelo menos um colóide de sílica ou óxido metálico tendo grupos etilenicamente insaturados livres; e o segundo revestimento, tendo propriedades contra a formação de sujeira, sendo obtido pela deposição sobre o primeiro revestimento de uma compyiçáo contra a formação de sujeira, que compreende pelo menos um composto II, ou um hidrolisado do mesmo, tendo pelo menos um grupo -Si-Z", com Z" representando OH ou um grupo hidrolisável.</p>
申请公布号 BRPI0516973(A) 申请公布日期 2008.09.30
申请号 BR2005PI16973 申请日期 2005.10.21
申请人 ESSILOR INTERNATIONAL (COMPAGNIE GENERALE D'OPTIQUE) 发明人 HOA THIEN DANG;YANNICK MOYSAN
分类号 C09D4/00;B32B27/28;C09D133/04;C09D183/04;G02B1/11 主分类号 C09D4/00
代理机构 代理人
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