发明名称 光电二极管以及使用了该光电二极管的光电IC
摘要 本发明提供一种光电二极管以及使用了该光电二极管的光电IC,其能够避免受硅半导体层与绝缘层的界面处的反射的影响,准确地检测出紫外线的总量。该光电二极管具有:形成在绝缘层上的第1硅半导体层;形成在绝缘层上的具有3nm以上、36nm以下的厚度的第2硅半导体层;形成于上述第2硅半导体层、低浓度扩散了P型和N型中任意一型杂质的低浓度扩散层;形成于第1硅半导体层、高浓度扩散了P型杂质的P型高浓度扩散层;以及隔着低浓度扩散层与该P型高浓度扩散层相对的、高浓度扩散了N型杂质的N型高浓度扩散层。
申请公布号 CN101271934A 申请公布日期 2008.09.24
申请号 CN200810085516.5 申请日期 2008.03.10
申请人 冲电气工业株式会社 发明人 三浦规之
分类号 H01L31/102(2006.01);H01L27/144(2006.01) 主分类号 H01L31/102(2006.01)
代理机构 北京集佳知识产权代理有限公司 代理人 雒运朴;李伟
主权项 1.一种光电二极管,其特征在于,具有:形成在绝缘层上的第1硅半导体层;第2硅半导体层,形成在上述绝缘层上,具有3nm以上、36nm以下的厚度;低浓度扩散层,形成于上述第2硅半导体层,低浓度扩散了P型和N型中任意一型的杂质;P型高浓度扩散层,形成于上述第1硅半导体层,高浓度扩散了P型杂质;以及N型高浓度扩散层,隔着上述低浓度扩散层与该P型高浓度扩散层相对,高浓度扩散了N型杂质。
地址 日本东京都