发明名称 胺甲酸酯衍生物及含其作为有效成分之除草剂
摘要 本发明乃有关胺基甲酸脂衍生物:□式中A系□或□B系□ , CC 或 CC式中X系卤原子或C1-4卤烷基,y系卤原子;R1,R4及R5各为氢原子或C1-4烷基;R2系氢原子,C1-4烷基或甲氧乙基;R3及R6各系C1-6烷基,C1-4卤烷基,甲氧乙基或苯基。因其在低剂量下能有效地控制水田杂草,而且对于水稻之植毒性很低,故为有用的除草剂。
申请公布号 TW234716 申请公布日期 1994.11.21
申请号 TW082105904 申请日期 1993.07.24
申请人 出光兴产股份有限公司 发明人 村上博幸;高桥一幸;富田诚司;鎌野秀树
分类号 C07C271/08;C07C271/40;C07D263/38 主分类号 C07C271/08
代理机构 代理人 何金涂 台北巿大安区敦化南路二段七十七号八楼
主权项 1.一种胺基甲酸酯衍生物:式中A系B系式中X系卤原 子或C C_1-4C卤烷基,y系卤原子;RC^1C,RC^4C及RC^5C各为氢 原子或CC_1-4C烷基;RC^2C系氢原子,CC_1-4C烷基或甲 氧乙基;RC^3C系CC_1-6C烷基,CC_1-4C卤烷基,甲氧乙 基或苯基,RC^6C系氢原子,CC_1-6C烷基,CC_1-4C卤烷 基,CC_1-4C醯基[--CO--RC^7C,其中RC^7C为氢原子或CC _1-3C烷基]或苯基,m为1至4之整数。2.根据申请专利 范围第1项之胺基甲酸酯衍生物,其中卤 原子为氟、氯、溴或碘。3.根据申请专利范围第1 项之胺基甲酸酯衍生物,其中CC _1-4C卤烷基乃被至少一个卤原子取代之CC_1-4C烷基 。4.根据申请专利范围第1项之胺基甲酸酯衍生物, 其中CC _1-4C卤烷基及卤甲基,卤乙基,卤丙基或卤丁基。5. 根据申请专利范围第1项之胺基甲酸酯衍生物,其 中RC ^1C,RC^2C,RC^4C或RC^5C所代表的CC_1-4C烷基指甲基 、乙基、丙基或丁基。6.根据申请专利范围第1项 之胺基甲酸酯衍生物,其中RC ^3C或RC^6C所代表的CC_1-6C烷基系甲基、乙基、丙基 、 丁基、戊基或己基。7.根据申请专利范围第1项之 胺基甲酸酯衍生物,其中CC _1-4C醯基系甲醯、乙醯、丙醯或丁醯。8.根据申请 专利范围第1项之胺基甲酸酯衍生物,其中RC ^7C所代表的CC_1-3C烷基系甲基、乙基或丙基。9.一 种除草剂,其包含下列胺基甲酸酯衍生物为有效成 分 :式中A系B系式中X系卤原子或CC_1-4C卤烷基,y系卤原 子;RC^1C,RC^4C及RC^5C各为氢原子或CC_1-4C烷基;RC ^2C系氢原子,CC_1-4C烷基或甲氧乙基;RC^3C系CC_1-6C 烷基,CC_1-4C卤烷基,甲氧乙基或苯基,RC^6C系氢原子 ,CC_1-6C烷基,CC_1-4C卤烷基,CC_1-4C醯基[--CO--RC ^7C,其中RC^7C为氢原子或CC_1-3C烷基]或苯基,m为1至 4之整数。10.根据申请专利范围第9项之除草剂,其 中卤原子为氟 、氯、溴或碘。11.根据申请专利范围第9项之除草 剂,其中CC_1-4C卤烷 基为被至少一个卤原子取代之CC_1-4C烷基。12.根据 申请专利范围第9项之除草剂,其中CC_1-4C卤烷 基及卤甲基,卤乙基,卤丙基或卤丁基。13.根据申 请专利范围第9项之除草剂,其中RC^1C,RC^2 C,RC^4C或RC^5C所代表的CC_1-4C烷基系甲基、乙基、丙 基或丁基。14.根据申请专利范围第9项之除草剂, 其中RC^3C或RC^6 C所代表的CC_1-6C烷基系甲基、乙基、丙基、丁基 、戊基 或己基。15.根据申请专利范围第9项之除草剂,其 中CC_1-4C醯基 系甲醯、乙醯、丙醯或丁醯。16.根据申请专利范 围第9项之除草剂,其中RC^7C所代表
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