| 发明名称 | 观察硅片样品断面的样品台 | ||
| 摘要 | 本实用新型公开了一种观察硅片样品断面的样品台，包括底座和与底座相配合的放置样品的平台，其中，放置样品的平台表面设有活动槽，每条活动槽设有调节活动槽宽度的活动槽宽度调节装置。本实用新型通过在样品台的平台上开设可调节宽度的活动槽，可以在一个样品台平台上同时放置不同厚度的样品进行断面观察，节省了工作时间，提高工作效率。 | ||
| 申请公布号 | CN201122096Y | 申请公布日期 | 2008.09.24 |
| 申请号 | CN200720144307.4 | 申请日期 | 2007.11.22 |
| 申请人 | 上海华虹NEC电子有限公司 | 发明人 | 裘莺 |
| 分类号 | G01B11/00(2006.01);G01B11/24(2006.01);G01B9/04(2006.01);G01N13/10(2006.01) | 主分类号 | G01B11/00(2006.01) |
| 代理机构 | 上海浦一知识产权代理有限公司 | 代理人 | 丁纪铁 |
| 主权项 | 1.一种观察硅片样品断面的样品台，包括底座和与底座相配合的放置样品的平台，其特征在于，放置样品的平台表面设有活动槽，每条活动槽设有调节活动槽宽度的活动槽宽度调节装置。 | ||
| 地址 | 201206上海市浦东新区川桥路1188号 | ||