等离子体化学气相淀积装置

摘要

本实用新型公开了一种等离子体化学气相淀积装置，该装置包括微波功率源及传输部件101、微波谐振腔体102、工艺室与样品台部件103、真空部件104、气路部件105、自动传片部件106、控制部件107，其中，微波谐振腔体内设有等间隔排列的磁场装置306，样品台部件设在工艺室内部，微波谐振腔体、真空部件、自动传片部件分别与工艺室809相连，微波功率源及传输部件与微波谐振腔体相连，控制部件通过接口分别控制微波功率源及传输部件、工艺室与样品台部件、真空部件、气路部件的工作状态，完成薄膜的淀积工艺过程。本实用新型具有大面积均匀性好、淀积速率高、自动化程度和生产效率高、可靠性好、功耗小、稳定性和重复性好的优点，可用作制备微电子薄膜的设备。

主权项

1.一种等离子体化学气相淀积装置，包括微波功率源及传输部件(101)、微波谐振腔体(102)、工艺室与样品台部件(103)、真空部件(104)、气路部件(105)，其特征在于：微波功率源及传输部件(101)设有矩形-同轴波导转换器(209)和微波谐振腔同轴波导(210)；微波谐振腔体(102)由上圆波导(301)-锥形波导(302)-下圆波导(313)三段组成，底部设有介质窗(303)；工艺室与样品台部件(103)设有承片部件(801)和加热部件(814)；该工艺室与样品台部件(103)连接有自动传片部件(106)；所述的微波谐振腔体(102)、真空部件(104)、自动传片部件(106)、气路部件(105)分别与工艺室与样品台部件(103)相连，所述的每个部件均通过控制部件(107)连接控制。