发明名称 | 根据特征间距进行图案分解的方法 | ||
摘要 | 公开了一种分解包含待印刷在晶片上的特征的目标图案的方法,包括步骤:(a)限定表示在内半径中为正值和在外半径中为负值的函数的核;(b)使用多个像素限定所述特征;(c)在多个像素的第一像素上设置所述核;(d)确定所述核在所述多个像素中每个像素的位置处的值,存储所述多个像素中每个像素的所述值,以限定所述多个像素中每个像素的像素值;(e)将与所述多个像素中的指定像素有关的预存储值同步骤(d)中确定的该指定像素的所述像素值相加;(f)在所述多个像素中的另一像素上设置所述核,重复步骤(d)-(f)直至所述多个像素中的每个像素被处理;和(g)根据该指定像素的像素值确定在第一图案或第二图案中所述像素的位置。 | ||
申请公布号 | CN101271483A | 申请公布日期 | 2008.09.24 |
申请号 | CN200710199970.9 | 申请日期 | 2007.09.13 |
申请人 | ASML蒙片工具有限公司 | 发明人 | 朴正哲 |
分类号 | G06F17/50(2006.01) | 主分类号 | G06F17/50(2006.01) |
代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 王新华 |
主权项 | 1、一种将包含待印刷在晶片上的特征的目标图案分解成多个图案的方法,包括步骤:(a)限定表示在内半径中为正值和在外半径中为负值的函数的核;(b)使用多个像素限定所述特征;(c)将所述核设置在所述多个像素的第一像素上;(d)确定所述核在所述多个像素中每个像素的位置处的值,存储对应所述多个像素中每个像素的所述值,以限定对应所述多个像素中每个像素的像素值;(e)将与所述多个像素中的指定像素有关的预存储值同步骤(d)中确定的该指定像素的所述像素值相加;(f)在所述多个像素中的另一像素上设置所述核,重复步骤(d)-(f),直至所述多个像素中的每个像素被处理完;和(g)根据该指定像素的像素值确定在第一图案或第二图案中所述像素的位置。 | ||
地址 | 荷兰维德霍温 |