发明名称 |
薄膜晶体管以及使用该薄膜晶体管的有机EL显示装置 |
摘要 |
提供一种薄膜晶体管以及使用该薄膜晶体管的有机EL显示装置。在薄膜晶体管中使用了含有Si、Ge的半导体层(4),该半导体层(4)的Ge浓度在绝缘基板(1)侧高,半导体层(4)的结晶取向在离绝缘基板(1)侧20nm的区域为随机取向,而在半导体层(4)的膜表面侧显示(111)、(110)或(100)优先取向性。 |
申请公布号 |
CN101271924A |
申请公布日期 |
2008.09.24 |
申请号 |
CN200810004599.0 |
申请日期 |
2008.01.25 |
申请人 |
株式会社日立制作所;国立大学法人东京工业大学 |
发明人 |
若木政利;半那纯一 |
分类号 |
H01L29/786(2006.01);H01L29/161(2006.01);H01L29/38(2006.01);H01L29/04(2006.01);H01L27/32(2006.01) |
主分类号 |
H01L29/786(2006.01) |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 |
代理人 |
岳耀锋 |
主权项 |
1.一种薄膜晶体管,该薄膜晶体管在绝缘基板上具有由多晶薄膜构成的半导体层、源电极、漏电极以及栅电极,其特征在于,所述多晶薄膜含有Si、Ge,并且Ge浓度在绝缘基板侧高。 |
地址 |
日本东京 |