发明名称 用于工业近景摄影中测量图像的正投影化校正方法
摘要 一种用于工业近景摄影测量图像的正投影化校正方法,涉及图像处理技术领域;所要解决的是提高摄影测量图像的准确率和效率的技术问题;该正投影化校正方法利用拍摄距离,拍摄角度和等大物体的成像规律,建立了反射影变换模型,方法的步骤:1)分别求取等大物体的成像尺寸比值关系的极值和相机镜头水平方向顶角;2)求取C-c,D-d,E-e,F-f四对点的对应关系:3)通过反射影变换,将图像的abcd区域转换为梯形ABCD区域。本发明的正投影化校正方法具有能提高自动解码算法的准确率和效率,减少数据采集的工作量和数据处理的时间,提高单幅图像中编码标志的利用率,降低了现场数据采集的劳动强度的特点。
申请公布号 CN101271575A 申请公布日期 2008.09.24
申请号 CN200810035796.9 申请日期 2008.04.09
申请人 东华大学 发明人 戴惠良;钟建安;楚万秀;方洁;邹伟;朱丰训;马涛
分类号 G06T7/00(2006.01);G01C11/04(2006.01) 主分类号 G06T7/00(2006.01)
代理机构 上海申汇专利代理有限公司 代理人 翁若莹
主权项 1、一种用于工业近景摄影中测量图像的正投影化校正方法,其特征在于,将图像abcd转换为参考平面上的ABCD区域;正投影化校正方法的步骤包括:1)分别求取等大物体的成像尺寸比值关系的极值和相机镜头水平方向顶角;2)求取C-c,D-d,E-e,F-f四对点的对应关系:a)求取比值由成像及几何关系,能推导出<math><mrow><mfrac><mi>EF</mi><mi>CD</mi></mfrac><mo>=</mo><mfrac><mrow><mn>2</mn><msup><mi>c</mi><mo>&prime;</mo></msup><msup><mi>d</mi><mo>&prime;</mo></msup></mrow><mrow><msup><mi>a</mi><mo>&prime;</mo></msup><msup><mi>b</mi><mo>&prime;</mo></msup><mo>+</mo><msup><mi>c</mi><mo>&prime;</mo></msup><msup><mi>d</mi><mo>&prime;</mo></msup></mrow></mfrac><mo>;</mo></mrow>b)求取比值<math><mrow><mfrac><mi>PQ</mi><mi>CD</mi></mfrac><mo>=</mo><mfrac><mrow><mfrac><mi>EF</mi><mi>CD</mi></mfrac><mo>-</mo><mn>1</mn></mrow><mrow><mn>2</mn><mi>tan</mi><mfrac><mrow><mo>&angle;</mo><mi>ESF</mi></mrow><mn>2</mn></mfrac></mrow></mfrac></mrow>1)通过反射影变换,将图像的abcd区域转换为梯形ABCD区域:a)由和确定出梯形CDFE各个顶点的坐标;b)利用C-c,D-d,E-e,F-f四对点的坐标进行反射影变换,将图像转换为正投影图像。
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