发明名称 喷嘴清洁装置
摘要 一种喷嘴清洁装置,包含具有至少一个倾斜面的喷嘴,喷嘴清洁装置包含:基座;擦拭件,位于基座上,擦拭件包含嵌置部及至少一个导斜面,导斜面位于嵌置部的周缘并对应于倾斜面设置;及至少一个磁力件,位于基座的侧边,用以产生磁力吸引喷嘴而使导斜面贴合倾斜面。本发明以磁力吸附方式使喷嘴与擦拭件完成自动对位校正,不仅可避免现有技术中以机械对位方式造成喷嘴或擦拭件磨损的问题,并可提高本发明的喷嘴清洁装置在位移时的稳定性。
申请公布号 CN101271277A 申请公布日期 2008.09.24
申请号 CN200810096239.8 申请日期 2008.05.06
申请人 友达光电股份有限公司 发明人 丁振原;陈信昌;彭志强;吴冠贤;林书汉
分类号 G03F7/16(2006.01);B08B13/00(2006.01) 主分类号 G03F7/16(2006.01)
代理机构 隆天国际知识产权代理有限公司 代理人 潘培坤
主权项 1、一种喷嘴清洁装置,包含具有至少一个倾斜面的一喷嘴,该喷嘴清洁装置包含:一基座;一擦拭件,位于该基座上,该擦拭件包含一嵌置部及至少一个导斜面,该导斜面位于该嵌置部的周缘并对应于该倾斜面设置;及至少一个磁力件,位于该基座的侧边,用以产生磁力吸引该喷嘴而使该导斜面贴合该倾斜面。
地址 中国台湾新竹市