发明名称 | 从无电镀镍浴中去除亚磷酸根离子 | ||
摘要 | 在无电镀镍浴中因次磷酸根氧化而产生的亚磷酸根离子,可以通过碱金属或碱土金属阳离子如钙的沉淀作用而去除。为了避免在浴中硫酸钙的沉淀和产生大量颗粒,可用镍的烷基磺酸盐或次磷酸盐代替硫酸钙。烷基磺酸和次磷酸的阴离子可与碱金属或碱土金属阳离子形成可溶性盐。 | ||
申请公布号 | CN1208442A | 申请公布日期 | 1999.02.17 |
申请号 | CN97191683.7 | 申请日期 | 1997.11.13 |
申请人 | 阿托泰克德国有限公司 | 发明人 | N·M·马蒂亚克;J·E·姆克卡斯基 |
分类号 | C23C18/36 | 主分类号 | C23C18/36 |
代理机构 | 上海专利商标事务所 | 代理人 | 徐迅 |
主权项 | 1.一种无电镀镍浴,其特征在于,它含有:a)次磷酸根离子,b)镍离子,c)碱金属或碱土金属离子,d)衍生自烷基磺酸的离子,该离子如下式:<img file="A9719168300021.GIF" wi="334" he="209" />式中:a、b和c各自独立地为1-3的整数;y是1-3的整数;R″是氢、或者未取代的或被O、Cl、F、Br、I、CF<sub>3</sub>或-SO<sub>2</sub>OH取代的低级烷基;R和R′各自独立地为H、Cl、F、Br、I;CF<sub>3</sub>或低级烷基,该烷基可以是未取代的或被O、Cl、F、Br、I、CF<sub>3</sub>或-SO<sub>2</sub>OH取代;而且a+b+c+y=4;e)任选的缓冲液、稳定剂、配位剂、螯合剂、促进剂、抑制剂或光亮剂。 | ||
地址 | 联邦德国柏林 |