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发明名称 METHOD FOR FORMING NON-AMORPHOUS, ULTRA-THIN SEMICONDUCTOR DEVICES USING SACRIFICIAL IMPLANTATION LAYER
摘要
申请公布号 EP1695381(A4) 申请公布日期 2008.09.17
申请号 EP20030796637 申请日期 2003.12.04
申请人 INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION 发明人 DOKUMACI, OMER, H.;RONSHEIM, PAUL
分类号 H01L21/8242;H01L21/225;H01L21/265;H01L21/28;H01L21/336;H01L29/10;H01L29/423;H01L29/786 主分类号 H01L21/8242
代理机构 代理人
主权项
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