SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND METHOD FOR MANUFACTURING A SEMICONDUCTOR DEVICE EMPLOYING SAME,申请号KR20020002453-传众专利搜索

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发明名称	SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND METHOD FOR MANUFACTURING A SEMICONDUCTOR DEVICE EMPLOYING SAME
摘要
申请公布号	KR100859076(B1)	申请公布日期	2008.09.17
申请号	KR20020002453	申请日期	2002.01.16
申请人		发明人
分类号	C23C16/44;H01L21/68;C23C16/458;H01L21/205;H01L21/31;H01L21/687	主分类号	C23C16/44
代理机构		代理人
主权项
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