发明名称 |
基于有源矩阵原理的微流体设备 |
摘要 |
提出了一种用于处理流体和/或用于感测流体性质的微流体设备(1),其包括多个部件(2)的二维阵列。每个部件(2)耦合到至少一个控制端子(9、10)上,所述至少一个控制端子(9、10)使有源矩阵能够独立地改变每个部件的状态。有源矩阵包括以薄膜技术实现的电子部件(12)的二维阵列。该有源矩阵提供了高通用性的设备。薄膜技术还确保了制造大设备的成本效益。 |
申请公布号 |
CN101267886A |
申请公布日期 |
2008.09.17 |
申请号 |
CN200680034635.7 |
申请日期 |
2006.09.22 |
申请人 |
皇家飞利浦电子股份有限公司 |
发明人 |
M·W·G·蓬吉;H·R·施塔伯特;M·T·约翰逊 |
分类号 |
B01L3/00(2006.01) |
主分类号 |
B01L3/00(2006.01) |
代理机构 |
永新专利商标代理有限公司 |
代理人 |
王英 |
主权项 |
1、一种微流体设备(1),包括用于处理流体和/或用于感测所述流体性质的多个部件(2)的二维阵列,其中,所述部件包括至少一个加热器元件,并且其中,每个部件(2)耦合到至少一个控制端子(9,10),所述至少一个控制端子使有源矩阵独立地改变所述每个部件的状态,并且其中,所述有源矩阵包括以薄膜技术实现的电子部件的二维阵列。 |
地址 |
荷兰艾恩德霍芬 |