| 发明名称 | 湿法浸入式设备的药液处理槽 | ||
| 摘要 | 本实用新型公开了一种湿法浸入式设备的药液处理槽，包括处理槽、聚氯乙烯外槽和循环外槽，处理槽通过支架支撑于聚氯乙烯外槽内，处理槽与聚氯乙烯外槽之间设置有循环外槽，处理槽内的底部设置有硅片支架，其中处理槽盛装有药液，聚氯乙烯外槽内盛有纯水，循环外槽内盛有药液；其中：所述处理槽的沿硅片排列方向的截面的底面形状为圆弧形。本实用新型将原有的矩形处理槽改进为底面为圆弧形的处理槽，能够在不影响硅片处理的情况下，最大限度地减小处理槽内药液的体积，从而节省药液的用量，降低生产成本；同时去除了容易产生结晶物的死角，从而避免在处理槽底部角落内产生结晶物，使结晶物不容易生成，改善工艺品质。 | ||
| 申请公布号 | CN201117639Y | 申请公布日期 | 2008.09.17 |
| 申请号 | CN200720144271.X | 申请日期 | 2007.10.26 |
| 申请人 | 上海华虹NEC电子有限公司 | 发明人 | 张弢;邹建祥 |
| 分类号 | H01L21/00(2006.01);H01L21/306(2006.01);C23F1/08(2006.01);B08B3/08(2006.01) | 主分类号 | H01L21/00(2006.01) |
| 代理机构 | 上海浦一知识产权代理有限公司 | 代理人 | 蔡光亮 |
| 主权项 | 1、一种湿法浸入式设备的药液处理槽，包括处理槽、聚氯乙烯外槽和循环外槽，处理槽通过支架支撑于聚氯乙烯外槽内，处理槽与聚氯乙烯外槽之间设置有循环外槽，处理槽内的底部设置有硅片支架；其特征在于：所述处理槽的沿硅片排列方向的截面的底面形状为圆弧形。 | ||
| 地址 | 201206上海市浦东新区川桥路1188号 | ||