发明名称 |
从光学记录介质再现数据的方法 |
摘要 |
提供一种从光学记录介质再现数据的方法,所述光学记录介质包括导入区、数据区、导出区、临时缺陷管理区以及缺陷管理区,所述方法包括:从设置在导入区或导出区中的临时缺陷管理区再现临时盘定义结构,所述临时盘定义结构包括在缺陷管理开/关模式被选择之后在数据区中分配的备用区的大小的信息,其中,所述缺陷管理开/关模式是允许再现设备识别在数据被记录到所述记录介质中的同时缺陷管理是否将被执行的信息。 |
申请公布号 |
CN101266821A |
申请公布日期 |
2008.09.17 |
申请号 |
CN200810081210.2 |
申请日期 |
2004.04.14 |
申请人 |
三星电子株式会社 |
发明人 |
黃盛凞;高祯完 |
分类号 |
G11B20/18(2006.01);G11B7/0045(2006.01) |
主分类号 |
G11B20/18(2006.01) |
代理机构 |
北京铭硕知识产权代理有限公司 |
代理人 |
韩明星;常桂珍 |
主权项 |
1、一种从光学记录介质再现数据的方法,所述光学记录介质包括导入区、数据区、导出区、临时缺陷管理区以及缺陷管理区,所述临时缺陷管理区存储关于在数据区中检测的缺陷的临时缺陷信息以及用于管理临时缺陷信息的临时盘定义结构,所述缺陷管理区存储在所述光学记录介质的最终确定期间记录在所述临时缺陷管理区中的最终的临时缺陷信息和最终的临时盘定义结构,所述方法包括:从设置在导入区或导出区中的临时缺陷管理区再现临时盘定义结构,所述临时盘定义结构包括在缺陷管理开/关模式被选择之后在数据区中分配的备用区的大小的信息,其中,所述缺陷管理开/关模式是允许再现设备识别在数据被记录到所述记录介质中的同时缺陷管理是否将被执行的信息。 |
地址 |
韩国京畿道水原市灵通区梅滩洞416 |