| 发明名称 | 薄膜沉积方法 | ||
| 摘要 | 公开了一种薄膜沉积方法，包括：在反应室中等距、平行、间隔交替放置激励电极板和接地电极板；将基板卡固于所述激励电极板和接地电极板的两侧表面；将所述基板加热至预定温度；向所述反应室中引入反应气体，并将反应气体激发为等离子体，在基板表面沉积薄膜。本发明的薄膜沉积方法能够大幅度提高薄膜沉积、特别是大面积薄膜沉积的效率，并可降低沉积层之间的交叉污染。 | ||
| 申请公布号 | CN101265573A | 申请公布日期 | 2008.09.17 |
| 申请号 | CN200810084627.4 | 申请日期 | 2008.03.14 |
| 申请人 | 福建钧石能源有限公司 | 发明人 | 杨与胜;张迎春 |
| 分类号 | C23C16/455(2006.01);C23C16/513(2006.01) | 主分类号 | C23C16/455(2006.01) |
| 代理机构 | 代理人 | ||
| 主权项 | 1、一种薄膜沉积方法，包括：在反应室中等距、平行、间隔交替放置激励电极板和接地电极板；将基板卡固于所述激励电极板和接地电极板的两侧表面；将所述基板加热至预定温度；向所述反应室中引入反应气体，并将反应气体激发为等离子体，在基板表面沉积薄膜。 | ||
| 地址 | 362000福建省泉州市鲤城区南环路江南高新科技园区 | ||