| 发明名称 | 电磁离合器 | ||
| 摘要 | 轭铁(30)与第1旋转体(50)之间的空隙需要所述公差及轴承构件的壁厚以上的磁空隙，存在发生磁损失的问题。本发明的电磁离合器，包括：产生磁通的不旋转的线圈(20)；与该线圈(20)同心状地构成的不旋转的轭铁(30)；形成隔着径向轴承膜(12)而被该轭铁(30)围绕并通过轴承膜(12)横跨所述轭铁(yoke)(30)的所述磁通的通道的第1旋转体(50)；通过所述磁通动作的电磁离合器部(4711、4712)；及通过该电磁离合器部(4711、4712)与所述第1旋转体(50)连接的第2旋转体(60)。 | ||
| 申请公布号 | CN100419297C | 申请公布日期 | 2008.09.17 |
| 申请号 | CN200510091937.5 | 申请日期 | 2005.08.09 |
| 申请人 | 三菱电机株式会社;常州姬菱科技有限公司 | 发明人 | 酒本宪尔;宫本美良 |
| 分类号 | F16D27/10(2006.01) | 主分类号 | F16D27/10(2006.01) |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人 | 方晓虹 |
| 主权项 | 1. 一种电磁离合器，包括：产生磁通的不旋转的线圈；与该线圈同心状地构成的不旋转的轭铁；形成被所述轭铁围绕且横跨所述轭铁的所述磁通的通道的第1旋转体；利用所述磁通而工作的电磁离合器部；及通过该电磁离合器部与所述第1旋转体连接的第2旋转体，其特征在于，所述第1旋转体形成隔着径向轴承膜而被所述轭铁围绕、并隔着所述径向轴承膜而横跨所述轭铁的磁通的通道。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||