| 发明名称 | 保护剂涂布设备、处理盒及成像装置 | ||
| 摘要 | 本发明涉及保护剂涂布设备、处理盒及成像装置。一种将主要包含石蜡的保护剂涂布到感光元件的保护剂涂布设备。该保护剂涂布设备以下述方式将保护剂涂布到感光元件的表面：当涂布保护剂10分钟时，等于或大于0.5μg/cm<SUP>2</SUP>的保护剂附着到所述表面，并且当涂布保护剂60分钟时，等于或小于8μg/cm<SUP>2</SUP>的保护剂附着到所述表面。 | ||
| 申请公布号 | CN101266415A | 申请公布日期 | 2008.09.17 |
| 申请号 | CN200810083773.5 | 申请日期 | 2008.03.12 |
| 申请人 | 株式会社理光 | 发明人 | 畠山久美子;加幡利幸;山下昌秀 |
| 分类号 | G03G5/05(2006.01);G03G21/10(2006.01) | 主分类号 | G03G5/05(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 宋莉 |
| 主权项 | 1.一种保护剂涂布设备，包含：以下述方式将含有石蜡的保护剂涂布到感光元件的表面的涂布单元：当涂布该保护剂10分钟时，等于或大于0.5μg/cm2的该保护剂附着到所述表面，并且当涂布该保护剂60分钟时，等于或小于8μg/cm2的该保护剂附着到所述表面。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||