| 发明名称 | 使用指令相关性查看深度来改善处理性能的方法和装置 | ||
| 摘要 | 本发明的方法和装置用于：使用X纳米的制造处理而制造处理器，所述X纳米的制造处理是比Y纳米处理更高级的处理；响应于所述高级制造处理而提高所述处理器的相关性查看电路的深度，以改善处理功率，其中，所述相关性查看电路用于确定是否输入流水线的指令的操作数依赖于在流水线中正在被执行的任何其他指令的操作数。 | ||
| 申请公布号 | CN100419638C | 申请公布日期 | 2008.09.17 |
| 申请号 | CN200610059124.2 | 申请日期 | 2006.03.14 |
| 申请人 | 索尼计算机娱乐公司 | 发明人 | 笠原荣二 |
| 分类号 | G06F1/32(2006.01);G06F9/38(2006.01) | 主分类号 | G06F1/32(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 黄小临;王志森 |
| 主权项 | 1. 一种方法，包括：使用其中通过改善的传播延迟来允许所述处理器的相关性查看电路具有更高的深度的高级制造处理来制造处理器；实现所述相关性查看电路使得其深度等于或大于执行指令集的任何指令所需要的时钟周期的最大数量，从而所述相关性查看电路可用于确定是否输入流水线的指令的操作数依赖于正在流水线中执行的任何其他指令的操作数；以及以比所述高级制造处理允许的最高频率低的频率操作所述处理器。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||