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发明名称
沟槽式记忆体结构及操作
摘要
利用形成于渠沟中之介电电荷载流子捕获位点的记忆体单元提供资料之非挥发性储存。各种实施例之记忆体单元具有两个控制闸极。一控制闸极邻近于含有电荷载流子陷阱之渠沟而形成。另一控制闸极具有一形成于该渠沟上方之部分,且对于某些实施例而言,该控制闸极可延伸至该渠沟中。该等电荷载流子捕获位点可为一渠沟之一测壁上的离散形成物、一自一侧壁延伸至另一侧壁之连续层,或在侧壁之间延伸之插塞。
申请公布号
TW200837887
申请公布日期
2008.09.16
申请号
TW096146182
申请日期
2007.12.04
申请人
美光科技公司
发明人
雷敏 葛德西
分类号
H01L21/8239(2006.01)
主分类号
H01L21/8239(2006.01)
代理机构
代理人
陈长文
主权项
地址
美国
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