原子层沈积技术

摘要

本发明揭露一种原子层沈积技术。在一个特定例示性实施例中，可藉由用于原子层沈积之装置来实现此技术。所述装置可包括一处理腔室，其具有一用以固持至少一个基板之基板平台。所述装置亦可包括一前驱物质之供应源，其中前驱物质包括至少一种第一种类之原子以及至少一种第二种类之原子，且其中供应源提供前驱物质以使至少一个基板之表面饱和。所述装置可更包括至少一种第三种类之介稳态原子之电浆源，其中介稳态原子能够自至少一个基板之饱和表面脱附至少一种第二种类之原子以形成至少一种第一种类之一或多个原子层。