发明名称 远红外线基材的制成方法
摘要 本案系指一种远红外线基材的制成方法,其步骤包含:提供一基材、制备一包含一远红外线释放物质的靶材以及溅镀该远红外线释放物质至该基材之至少一表面,形成一远红外线薄膜。
申请公布号 TW200837208 申请公布日期 2008.09.16
申请号 TW096107951 申请日期 2007.03.07
申请人 财团法人国家实验研究院;台北医学大学 发明人 林永昇;潘汉昌;李昭德;梁庭继
分类号 C23C14/34(2006.01);C23C14/06(2006.01) 主分类号 C23C14/34(2006.01)
代理机构 代理人 蔡清福
主权项
地址 台北市信义区吴兴街250号
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