发明名称 |
耐热遮光薄膜与其制法、及使用它之光圈或光量调整装置 |
摘要 |
本发明提供一种耐热遮光薄膜及其制造方法、以及采用它的光圈或光量调节装置,该耐热遮光薄膜系作为数位照相机、数位摄影机的镜头快门等的快门叶片或光圈叶片或者投影机的光量调节用光圈装置的光圈叶片等光学仪器部件使用,其遮光性、耐热性、滑动性、低光泽性、导电性优良。该耐热遮光薄膜特征在于:包括具有200℃以上的耐热性的树脂薄膜基材(A)、在树脂薄膜基材(A)一面或两面上通过溅射法形成的具有50nm以上厚度的Ni类金属膜(B)、在Ni类金属膜(B)上通过溅射法形成的低反射性Ni类氧化物膜(C),并且表面粗糙度为0.1~0.7μm(算术平均高度Ra)。 |
申请公布号 |
TW200836915 |
申请公布日期 |
2008.09.16 |
申请号 |
TW096145112 |
申请日期 |
2007.11.28 |
申请人 |
住友金属山股份有限公司 |
发明人 |
小野胜史;阿部能之;塚越幸夫 |
分类号 |
B32B15/08(2006.01);C08J5/18(2006.01);C23C14/20(2006.01);C23C14/08(2006.01);G02B5/00(2006.01) |
主分类号 |
B32B15/08(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
何金涂;何秋远 |
主权项 |
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地址 |
日本 |