| 摘要 |
本发明系提供一种喷射研磨矽粉之方法，其将矽颗粒(50)注入产生气体涡流之喷射研磨机(10)中，该气体涡流系载承颗粒，并使颗粒藉由彼此碰撞或撞击研磨机之室(12)的墙面，进行研磨。如其他与未经研磨之颗粒或经研磨之粉末接触的部件，室之墙面(16、18、20)有利地以高纯度矽形成。颗粒与室部件可以电子级矽形成，但多晶矽亦可作为室部件。此外，将微粒则载承在气体流中的进料管(64)，与在涡流中心(14)处作为出口的涡流发现器(42)，可利用矽形成。研磨与进料气体(9、30、58)可为氮气，其可由以不锈钢作为衬垫之液态氮槽(102)所供应。进料颗粒可以化学气相沉积法形成。 |
