发明名称 倍半氧矽烷系化合物混合物及水解性矽烷化合物,其制造方法及使用其之光阻组成物以及图型之形成方法及基板之加工方法
摘要 [解决手段]本发明系提供一种倍半氧矽烷系化合物混合物,其系含有具侧链之倍半氧矽烷单位且缩合度为实质上100%者,其特征为该倍半氧矽烷系化合物混合物具有之侧链,系具有一部份伸甲基可被氧取代之原菠烷骨架与矽原子直接结合之结构;该原菠烷骨架未与矽结合之一侧之二伸甲基链系可由1个以上之氢以外之取代基所取代,且该二伸甲基链上之高体积密度取代基占有exo位之异构体比率系更高者。[效果]本发明系提供一种特别适合于化学增幅正型光阻组成物之具有实质上100%缩合度之倍半氧矽烷系化合物或其混合物。进而,使用藉由本发明所得到之具有100%缩合度之倍半氧矽烷系化合物混合物之光阻组成物,其与传统物质相比较,系具有高解像性、且特别是对于微小重复之图型形成具有高性能者。
申请公布号 TW200837102 申请公布日期 2008.09.16
申请号 TW096136049 申请日期 2007.09.27
申请人 信越化学工业股份有限公司 发明人 中岛睦雄;滨田吉隆;竹村胜也;野田和美
分类号 C08G77/18(2006.01);G03F7/039(2006.01);G03F7/075(2006.01);H01L21/027(2006.01) 主分类号 C08G77/18(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本