| 发明名称 |
光具（Ｐｈｏｔｏｔｏｏｌ）及抗焊阻剂图型之形成方法 |
| 摘要 |
本发明系提供一种不受抗焊阻剂层之膜厚与蓝色颜料所影响，再现性佳、可形成高解像度之光阻图型之抗焊阻剂的曝光处理技术。本发明系提供一种阻断50％以上370nm以下之光，且使80％以上400nm以上之光透过之薄膜及使用具备该薄膜之光具的抗焊阻剂图型形成中的曝光处理技术。 |
| 申请公布号 |
TW200837503 |
申请公布日期 |
2008.09.16 |
| 申请号 |
TW096142700 |
申请日期 |
2007.11.12 |
| 申请人 |
太阳油墨制造股份有限公司 |
发明人 |
柴崎阳子;加藤贤治;有马圣夫 |
| 分类号 |
G03F7/20(2006.01);G03F1/00(2006.01);G03F7/004(2006.01);G03F7/029(2006.01);G03F7/031(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
林志刚 |
| 主权项 |
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| 地址 |
日本 |
