| 摘要 |
<p>Die Erfindung betrifft ein Carriersystem (1) zum Fixieren einer Mehrzahl zu prozessierender Substrate (S), umfassend mindestens zwei Kontaktbereiche (10) mit Fixiermitteln (11) zum Fixieren eines Substrates (S) an einem zugeordneten Kontaktbereich (10), wobei sich zwischen zwei benachbarten Substraten (S) Angrenzbereiche (D) ausbilden, eine Haltevorrichtung (13), mittels der sich das Carriersystem bei einem Prozessieren der Substrate (S) in einer Prozessanlage (BA) räumlich derart anordnen lässt, dass die auf die Substrate (S) wirkende Schwerkraft (g) eine Kraftkomponente aufweist, die von dem jeweils zugeordneten Kontaktbereich (10) weg weist. Erfindungsgemäß ist vorgesehen, dass die Kontaktbereiche (10) in Form ebener quadratischer oder rechteckiger Flächen ausgebildet sind, dass sich durch die Fixiermittel (11) eine auf das Substrat (S) in Richtung des Kontaktbereiches (10) wirkende Haftkraft ausüben lässt und dass die Haltevorrichtung (13) und die Fixiermittel (11) im Wesentlichen außerhalb der Angrenzbereiche (D) angeordnet sind. Auf diese Weise lassen sich die Angrenzbereiche (D) zwischen den Substraten (S) minimieren, wodurch das Carriersystem (1) dem Bearbeitungsprozess weniger ausgesetzt wird. Ferner betrifft die Erfindung ein Verfahren zum Prozessieren von Substraten unter Einsatz eines solchen Carriersystems (1), insbesondere zur Herstellung von Halbleiterwafer-Solarzellen.</p> |
