发明名称 |
检查光掩模的方法与系统、计算机可读取的存储介质 |
摘要 |
一种检查光掩模的方法与系统、计算机可读取的存储介质,该检查光掩模的方法包括将来自一发光源的光导入一光掩模的一第一面,使得该光的至少一部分透过该光掩模传送。从该光透过该光掩模被传送且从该光掩模的一第二面可观察的部分检测一第一光掩模图像。通过将一曝光模拟模型应用于一光掩模设计而产生一第二光掩模图像。并判定该第一光掩模图像及该第二光掩模图像之间的一差异。本发明可用以检查光掩模的缺陷。 |
申请公布号 |
CN101256551A |
申请公布日期 |
2008.09.03 |
申请号 |
CN200810080528.9 |
申请日期 |
2008.02.21 |
申请人 |
台湾积体电路制造股份有限公司 |
发明人 |
黄良荣;段成龙 |
分类号 |
G06F17/00(2006.01);G03F1/00(2006.01);G03F7/20(2006.01) |
主分类号 |
G06F17/00(2006.01) |
代理机构 |
隆天国际知识产权代理有限公司 |
代理人 |
陈晨;吴世华 |
主权项 |
1.一种检查光掩模的方法,其包括:将来自一发光源的光导入一光掩模的一第一面,使得该光的至少一部分穿透该光掩模;从该部分穿透过该光掩模的光且从该光掩模的一第二面可观察的部分检测一第一光掩模图像;通过将一曝光模拟模型应用于一光掩模设计而产生一第二光掩模图像;以及判定该第一光掩模图像及该第二光掩模图像之间的一差异。 |
地址 |
中国台湾新竹市 |