发明名称 |
生成Ⅲ-N层的方法,和Ⅲ-N层或Ⅲ-N衬底,以及其上的器件 |
摘要 |
本发明公开了一种生长厚III-N层的外延生长方法,其中,III指元素周期表中第III族中的至少一种元素,厚III-N层被沉积在异质衬底上。外延生长方法优选用HVPE来实现。衬底也可以是包含异质衬底和至少一个薄III-N中间层的模板。通过使衬底具有有意选取的取向差和/或在外延生长处理过程的最后减小N/III比率和/或反应器压力,可以改善表面质量。本发明也公开了具有这种改善III-N层的衬底和半导体器件。 |
申请公布号 |
CN101258271A |
申请公布日期 |
2008.09.03 |
申请号 |
CN200680015547.2 |
申请日期 |
2006.05.05 |
申请人 |
弗赖贝格化合物原料有限公司;欧司朗光电半导体有限公司 |
发明人 |
费迪南·斯考兹;彼得·布克纳;弗兰克·哈伯尔;马提亚·彼得;克劳斯·柯勒 |
分类号 |
C30B29/40(2006.01);H01L21/205(2006.01);C30B25/02(2006.01) |
主分类号 |
C30B29/40(2006.01) |
代理机构 |
广州华进联合专利商标代理有限公司 |
代理人 |
郑小粤 |
主权项 |
1.一种用于生成厚III-N层的外延生长方法,其中,III指元素周期表第III族元素中的至少一种元素,其中,厚度大于等于40微米的厚III-N层被沉积在取向差在0.1°和0.2°之间的异质衬底上。 |
地址 |
德国弗赖贝格 |