发明名称 可避免锁死现象的静电放电装置
摘要 本发明是有关于一种可避免锁死现象的静电放电装置,当一电源电压未供应至该静电放电装置时,其具有等效硅控整流器(SCR)结构;当该电源电压供应至该静电放电装置时,其具有等效PN二极管结构,因此可以避免静电放电装置的锁死现象。
申请公布号 CN100416832C 申请公布日期 2008.09.03
申请号 CN200510087179.X 申请日期 2005.07.27
申请人 崇贸科技股份有限公司 发明人 黄志丰;杨大勇;林振宇;简铎欣
分类号 H01L27/04(2006.01);H01L23/60(2006.01) 主分类号 H01L27/04(2006.01)
代理机构 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 代理人 寿宁;张华辉
主权项 1. 一种可避免锁死的静电放电装置,其特征在于其包括:一P型基板;一N型阱,形成于该P型基板中;一第一N+型掺杂区,形成于该N型阱中;一第一P+型掺杂区,形成于该N型阱中;一第二N+型掺杂区,形成于该N型阱中,并位于该第一P+型掺杂区与一第一场氧化层之间,该第一场氧化层位于该N型阱的边缘上;一第三N+型掺杂区,形成于该P型基板中以及该N型阱外,其中该第三N+型掺杂区与该N型阱不相接触;一第二P+型掺杂区,形成于该P型基板中以及该N型阱外,其中该第二P+型掺杂区与该N型阱不相接触;一第一电极,其经由一第一电性导体连接该第二P+型掺杂区与该第三N+型掺杂区;一第二电极,其经由一第二电性导体连接该第一N+型掺杂区与该第一P+型掺杂区;以及一第三P+型掺杂区,形成于该P型基板中以及该N型阱外,其中该第三P+型掺杂区是以该第一场氧化层与该第二N+型掺杂区隔开,其中当该静电放电装置于未供应电源状态下,该第三P+型掺杂区是为浮接状态,当该静电放电装置于电源供应状态下,该第三P+型掺杂区是连接至一最低电位。
地址 中国台湾