| 发明名称 | 光刻技术方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种光刻图案成形的方法。该方法包括：向要形成图案的表面涂覆包含聚合物树脂、光催化剂产生剂(其在曝光于光化辐射中时产生催化剂)、以及淬灭剂的光致抗蚀剂(18)；通过掩模图案(12)将光致抗蚀剂(18)曝光于光化辐射；执行曝光后烘焙；然后用显影剂对光致抗蚀剂(18)进行显影，以去除在显影剂中变得可溶解的光致抗蚀剂部分；聚合物树脂在曝光于光化辐射之前基本上不溶解于显影剂，通过催化剂的作用以及烘焙中的淬灭剂的作用，变得溶解于显影剂中，或者聚合物树脂在曝光于光化辐射之前溶解于显影剂，通过催化剂的作用以及烘焙中的淬灭剂的作用，变得基本上不溶解于显影剂中。 | ||
| 申请公布号 | CN101258446A | 申请公布日期 | 2008.09.03 |
| 申请号 | CN200680032459.3 | 申请日期 | 2006.09.05 |
| 申请人 | NXP股份有限公司 | 发明人 | 彼得·桑德贝尔根;耶罗恩·H·拉默斯;戴维·范斯滕温克尔 |
| 分类号 | G03F7/039(2006.01);G03F7/038(2006.01) | 主分类号 | G03F7/039(2006.01) |
| 代理机构 | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 | 代理人 | 陈源;张天舒 |
| 主权项 | 1.一种光刻图案成形的方法，其包括步骤：向要形成图案的表面涂覆光致抗蚀剂(18)，该光致抗蚀剂包含聚合物树脂、在曝光于光化辐射时产生催化剂的光催化剂产生剂、以及淬灭剂；通过掩模图案(12)将光致抗蚀剂(18)曝光于光化辐射；执行曝光后烘焙；以及然后用显影剂对光致抗蚀剂(18)进行显影，以去除在显影剂中变得可溶解的光致抗蚀剂部分；其中，聚合物树脂在曝光于光化辐射之前基本上不溶解于显影剂，而通过催化剂的作用以及烘焙中的淬灭剂的作用，变得溶解于显影剂中，或者聚合物树脂在曝光于光化辐射之前溶解于显影剂，而通过催化剂的作用以及烘焙中的淬灭剂的作用，变得基本上不溶解于显影剂中。 | ||
| 地址 | 荷兰艾恩德霍芬 | ||