| 发明名称 | 外延氧化物膜、压电膜、压电膜元件、使用压电膜元件的液体排出头、以及液体排出装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种压电膜、一种压电膜元件、一种使用该压电膜元件的液体排出头和一种液体排出装置。通过使用由根据通式ABO<SUB>3</SUB>构成的钙钛矿复合氧化物所组成的外延氧化物膜作为压电膜而得到压电膜元件，该压电膜元件可适用于液体排出头的排出压力生成元件。该外延氧化物膜至少具有相对于彼此具有晶向偏离的A晶畴和B晶畴。A晶畴和B晶畴之间的晶向偏离小于2°。 | ||
| 申请公布号 | CN101258620A | 申请公布日期 | 2008.09.03 |
| 申请号 | CN200680032356.7 | 申请日期 | 2006.09.05 |
| 申请人 | 佳能株式会社;国立大学法人东京工业大学 | 发明人 | 伊福俊博;青木活水;松田坚义;州窪浩;横山信太郎;金容宽;中木宽;碇山理究 |
| 分类号 | H01L41/187(2006.01);B41J2/045(2006.01);B41J2/055(2006.01);B41J2/16(2006.01);H01L41/09(2006.01);H01L41/18(2006.01);H01L41/22(2006.01);H02N2/00(2006.01) | 主分类号 | H01L41/187(2006.01) |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 魏小薇 |
| 主权项 | 1.一种外延氧化物膜，由用通式ABO3表示的钙钛矿复合氧化物构成，所述外延氧化物膜至少包括相对于彼此具有晶向偏离的A晶畴和B晶畴，其中，所述A晶畴和B晶畴之间的晶向偏离小于5°。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||